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日本の電子ガスおよび半導体ガス市場を動かしているのは何でしょうか。本記事では、国内需要を押し上げている要因と、市場を構成する製品タイプ・用途を整理します。
需要を押し上げている要因
日本における電子および半導体ガスの需要は、主に半導体製造産業の成長によって推進されています。日本では、半導体製造プロセスで使用されるガスが不可欠であり、これにより先端技術の開発が促進されています。近年、5G技術やIoTデバイスの普及に伴い、より高性能の電子機器が求められています。これにより、特定のガスの需要が増加しており、コストや規制の圧力も影響を及ぼしています。厳格な環境規制の遵守が求められる中、メーカーは効率性向上とコスト削減を同時に実現しなければなりません。また、先端素材の導入やエコフレンドリーな製品への技術的転換が進む中で、ガスの選定方法も変化しています。これにより、製品の不純物の低減や生産プロセスの改善が求められ、市場は変化の真っただ中にあります。
製品タイプ別の内訳
- 水素
- 三フッ化窒素
- 塩素ガス
- シリコンガス
- アンモニアガス
- その他
タイプごとの特徴
電子・半導体用ガスは、製造工程ごとに役割が異なります。水素は還元性や熱伝導性を活かし、エピタキシャル成長やアニール、パージ工程で使われます。三フッ化窒素は強い酸化力を利用してCVD装置などのチャンバー洗浄に用いられ、温室効果の低い代替洗浄ガスとしても注目されています。塩素ガスは塩素系エッチングや化合物半導体の加工に使われますが、腐食性と毒性が高いため管理が重要です。シランやジクロロシランなどのシリコン系ガスは、シリコン膜や酸化膜、窒化膜の成膜原料として広く使われます。アンモニアガスは窒化膜の形成やドライエッチングに利用されます。その他のガスとしては、アルゴンやヘリウムなどの不活性ガスが雰囲気制御や冷却に、六フッ化タングステンやホスフィン、アルシンなどが配線やドーピング工程に用いられます。
用途別の内訳
- チャンバークリーン
- 酸化
- 寄託
- エッチング
- ドーピング
- その他
市場に関わる主要企業
- SK Materials
- Versum Materials
- Air Liquide
- Taiyo Nippon Sanso
- Praxair-Linde
- Kanto Denka
- Showa Denko
- Air Products and Chemicals
- Hyosung
- Sumitomo Seika Chemicals
- Central Glass
- The 718th Research Institute of CSSC
- Adeka
- REC
- Mitsui Chemical
- Tokuyama
- Huate Gas
電子ガスおよび半導体ガス市場レポート
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